Quy cách: 20 Kg/bao
Nhà sản xuất: KPM TECH Hàn Quốc
0965405843 Mr Tùng
0988972665 Ms Phương
Công đoạn tẩy dầu trong công đoạn xử lý trước công đoạn mạ vô cùng quan trọng. Thời gian gần đây, nhu cầu tẩy hoàn toàn theo phương pháp No-Brushing trong ngành công nghiệp mạ tự động đang ngày càng tăng. PURICLE C-4 phát huy được khả năng tẩy mạnh, nâng cao hiệu quả sản xuất và giá thành thấp, giảm tình trạng ô nhiệm môi trường do NO-CN v.v.
Đặc điểm
Được sử dụng với mục đích tẩy dầu mỡ bề mặt đồng và hợp kim đồng, tuy nhiên vẫn sử dụng được cho các kim loại khác.
Có thể sử dụng như là chất tẩy rửa điện giải thông dụng
Có hiệu quả vượt trội trong việc loại bỏ khí ga, dầu mỡ, chất nhiễm bẩn
Có tính kinh tế cao nhờ khả năng tẩy rửa liên tục
Độ bám cao nên rất tốt cho dòng máy tự động
Đặc tính dung dịch và điều kiện sử dụng
Đặc tính và điều kiện sử dụng |
Phạm vi |
Tiêu chuẩn |
PURICLE C-4 Nhiệt độ Thời gian
Mật độ dòng điện âm |
35-65gr/Li 45-65 ºC Tẩy : 2-5 phút Điện giải : 0,5-3 phút 5-10A/dm2 |
50gr/Li 60 ºC 3 phút 1 phút 7A/dm2 |