Hóa chất tẩy bề mặt đồng PURICLE C4 - Electro plating agent

Quy cách: 20 Kg/bao

Nhà sản xuất: KPM TECH Hàn Quốc

0965405843  Mr Tùng

0988972665  Ms Phương


Thông tin sản phẩm

Công đoạn tẩy dầu trong công đoạn xử lý trước công đoạn mạ vô cùng quan trọng. Thời gian gần đây, nhu cầu tẩy hoàn toàn theo phương pháp No-Brushing trong ngành công nghiệp mạ tự động đang ngày càng tăng. PURICLE C-4 phát huy được khả năng tẩy mạnh, nâng cao hiệu quả sản xuất và giá thành thấp, giảm tình trạng ô nhiệm môi trường do NO-CN v.v.

Đặc điểm

Được sử dụng với mục đích tẩy dầu mỡ bề mặt đồng và hợp kim đồng, tuy nhiên vẫn sử dụng được cho các kim loại khác.

Có thể sử dụng như là chất tẩy rửa điện giải thông dụng

Có hiệu quả vượt trội trong việc loại bỏ khí ga, dầu mỡ, chất nhiễm bẩn

Có tính kinh tế cao nhờ khả năng tẩy rửa liên tục

Độ bám cao nên rất tốt cho dòng máy tự động

 

Đặc tính dung dịch và điều kiện sử dụng

Đặc tính và điều kiện sử dụng

Phạm vi

Tiêu chuẩn

PURICLE C-4

Nhiệt độ

Thời gian

 

Mật độ dòng điện âm

35-65gr/Li

45-65 ºC

Tẩy : 2-5 phút

Điện giải : 0,5-3 phút

5-10A/dm2

50gr/Li

60 ºC

3 phút

1 phút

7A/dm2


Sản phẩm liên quan